2號標準清洗液(sC-2)去除堿金屬離子、氫氧根及復雜的殘余金屬。它會在晶圓表面留下一層保護性的氧化物。為了去除硅表面的金屬(和某些有機物)污, H03CF5必須使用高氧化能力和低pH值的溶液,在這種情況下,金屬成為離子并溶于 具有強烈氧化效應的酸液中。清洗液就能從金屬和有機物沾污中俘獲電子并氧化它們,電離的金屬溶于溶液中,而有機雜質被分解。化學溶液的原始濃度及其稀釋的混合液均列在表3,13中。

   改進的RCA清洗。多年來,RCA的配方經久不衰,至今仍是大多數爐前清洗的基本清洗工藝。隨著工業清洗的需求,化學品的純度也在不斷地進行改進。根據不同的應用,SC-1和sC―2前后順序也可顛倒。如果晶圓表面不允許有氧化物存在,則需加入氫氟酸清洗這一步。它可以放在sC―1和sC-2之前進行,或者在兩者之間,或者在RCA清洗之后。