先進的干法刻蝕反應器
發布時間:2017/11/2 20:11:22 訪問次數:652
先進的干法刻蝕反應器
如圖8.10所示,就導體和電介質刻蝕機雨j占,排列在前二甲的干法VSC8145VQ-03刻蝕機廠商包括泛林半導體(I'am rescarch,I'AM),東京電子(Tokyo Electror,TEI')和應用材料公司(Applicd Materials,AMAT)。事實上,盡管CM()S的特征尺寸在過去的十年閘(2001~2010年)已經從0,13um縮減到45nm,這一排序沒有改變過。每個廠商都開發出各自不同的硬件體系,用來滿足對片內和片間均勻性控制的苛刻需求。
先進的干法刻蝕反應器
如圖8.10所示,就導體和電介質刻蝕機雨j占,排列在前二甲的干法VSC8145VQ-03刻蝕機廠商包括泛林半導體(I'am rescarch,I'AM),東京電子(Tokyo Electror,TEI')和應用材料公司(Applicd Materials,AMAT)。事實上,盡管CM()S的特征尺寸在過去的十年閘(2001~2010年)已經從0,13um縮減到45nm,這一排序沒有改變過。每個廠商都開發出各自不同的硬件體系,用來滿足對片內和片間均勻性控制的苛刻需求。
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