在第9章中，ADS7870EA各向異性刻蝕的概念用來說明形成豎直（或接近豎直）刻蝕側墻的一種方法。當刻蝕層實際上是多層不同材料疊在一起時，該問題變得更復雜[見圖10. 40(a)]。使用選擇性比較差的刻蝕劑會形成寬度不同的層面[見圖10. 40(b)]。多層刻蝕輪廓控制必須綜合考慮刻蝕劑化學成分、功率水平、系統壓力和設計。

   學習完本章后，你應該能夠：

   1．描述4種與曝光有關的效應，這4種效應都會引起光刻圖形畸變。

   2．描繪雙層光刻膠工藝的截面流程圖。

   3．描繪雙大馬士革制程工藝的截面流程圖。

   4．列舉兩種平坦化技術。

   5．說出圖形反轉工藝的優點。

   6．描述抗反射涂層、反差增強涂層和光刻膠染色劑是怎樣改進分辨率的。

   7．識別光刻掩模版的薄膜部分并講出它對光刻工藝的貢獻。