DTSM-63K-V 阻抗高極易被靜電擊穿
發布時間:2020/1/5 17:07:27 訪問次數:1416
DTSM-63K-V當LGs>0,在絕緣層和襯底之間表面形成一層耗盡層,但負離子不能導電。UGs=UT時,漏極和源極之間產生導電溝道。在漏、源極之間加正向電壓UDs時,將會產生電流rD。
在UDs>0時,有三種情況存在,其結果如下:若UGs(UT,耗盡層消失,無導電溝道,ID為0;若LIGs)UT,出現導電溝道,D、S之間有電流JD流過;若UGs逐漸增大,溝道加厚,溝道電阻減少,JD也隨之逐漸增大,即UGs控制D的變化。
N溝道耗盡型MOS場效應管應管結構及符號所示。
N溝道耗盡型絕緣柵場效siO,N溝道耗盡型絕緣柵場效應管結構及符號,當UGs=0時,UDs加正向電壓,產生漏極電流ID,此時的漏極電流稱為漏極飽和電流,用Dss表示。
當UGs>0時,將使ID進一步增加。當LIGs<0時,隨著UDs的減小漏極電流逐漸減小.直至II>0。
MOS場效應管使用注意事項 MOS場效應管由于輸入阻抗高極易被靜電擊穿,使用時應注意事項如下。
從場效應管的結構來分析,其源極和漏極是對稱的,所以一些場合源極和漏極可以互換。制造時已將襯底引線與源極連在一起的場效應管,源極和漏極就不能互換。
場效應管各極間電壓極性輸人正確,結型場效應管的柵源電壓UGs極性不能接反。
當MOS管的襯底引線單獨引出時,如果是N溝道MOs管,應將其接到電路中的電位最低點,如果是P溝道MOS管,應將其接到電路中的電位最高點,以保證溝道與襯底間的PN結處于反向偏置,使襯底與溝道及各電極隔離。
MOS管的柵極是絕緣的,感應電荷不易泄放,而且絕緣層很薄,極易擊穿.柵極不能開路。
焊接MOS場效應管時,電烙鐵必須可靠接地或者斷電利用烙鐵余熱焊接,并注意對交流電場的屏蔽。
取出的MOS器件不能放在塑料板上,應用金屬盤來盛放。場效應管外形如圖8-9所示。
To-220AB 1―Gatc;2-I)rain;3-Sourcc晶間管(Thyr“tor)有三個極.分別為陽極、陰極、門極,廣泛應用于可控整流、交流調壓、無觸點電子開關、逆變及變頻等電子電路中。晶閘管叉叫可控硅(SCR,S山con Controlled Recti-fier),是一種大功率半導體器件,最早出現于20世紀70年代。它的出現使半導體器件由弱電領域擴展到強電領域。晶閘管的主要特MOS器件出廠時通常裝在黑色的導電泡沫塑料袋中也可用細線.
DTSM-63K-V當LGs>0,在絕緣層和襯底之間表面形成一層耗盡層,但負離子不能導電。UGs=UT時,漏極和源極之間產生導電溝道。在漏、源極之間加正向電壓UDs時,將會產生電流rD。
在UDs>0時,有三種情況存在,其結果如下:若UGs(UT,耗盡層消失,無導電溝道,ID為0;若LIGs)UT,出現導電溝道,D、S之間有電流JD流過;若UGs逐漸增大,溝道加厚,溝道電阻減少,JD也隨之逐漸增大,即UGs控制D的變化。
N溝道耗盡型MOS場效應管應管結構及符號所示。
N溝道耗盡型絕緣柵場效siO,N溝道耗盡型絕緣柵場效應管結構及符號,當UGs=0時,UDs加正向電壓,產生漏極電流ID,此時的漏極電流稱為漏極飽和電流,用Dss表示。
當UGs>0時,將使ID進一步增加。當LIGs<0時,隨著UDs的減小漏極電流逐漸減小.直至II>0。
MOS場效應管使用注意事項 MOS場效應管由于輸入阻抗高極易被靜電擊穿,使用時應注意事項如下。
從場效應管的結構來分析,其源極和漏極是對稱的,所以一些場合源極和漏極可以互換。制造時已將襯底引線與源極連在一起的場效應管,源極和漏極就不能互換。
場效應管各極間電壓極性輸人正確,結型場效應管的柵源電壓UGs極性不能接反。
當MOS管的襯底引線單獨引出時,如果是N溝道MOs管,應將其接到電路中的電位最低點,如果是P溝道MOS管,應將其接到電路中的電位最高點,以保證溝道與襯底間的PN結處于反向偏置,使襯底與溝道及各電極隔離。
MOS管的柵極是絕緣的,感應電荷不易泄放,而且絕緣層很薄,極易擊穿.柵極不能開路。
焊接MOS場效應管時,電烙鐵必須可靠接地或者斷電利用烙鐵余熱焊接,并注意對交流電場的屏蔽。
取出的MOS器件不能放在塑料板上,應用金屬盤來盛放。場效應管外形如圖8-9所示。
To-220AB 1―Gatc;2-I)rain;3-Sourcc晶間管(Thyr“tor)有三個極.分別為陽極、陰極、門極,廣泛應用于可控整流、交流調壓、無觸點電子開關、逆變及變頻等電子電路中。晶閘管叉叫可控硅(SCR,S山con Controlled Recti-fier),是一種大功率半導體器件,最早出現于20世紀70年代。它的出現使半導體器件由弱電領域擴展到強電領域。晶閘管的主要特MOS器件出廠時通常裝在黑色的導電泡沫塑料袋中也可用細線.